GIK – 抗皺精華面膜NMN

GIK 抗皺精華面膜NMN專為逆轉肌膚老化徵兆設計，能激活細胞能量、重啟年輕修護機制。其中「NMN（β-煙醯胺單核苷酸）」成分可提升細胞NAD+水平達300%，延緩衰老進程；「八胜肽」則針對表情紋路，實現類肉毒桿菌的放鬆效果。

主要成分
嚴選尖端抗老科技，以細胞級修護配方精準作用

• NMN（β-煙醯胺單核苷酸）（激活長壽蛋白Sirtuin，延長細胞青春週期）
• 八胜肽（Acetyl Octapeptide-3）（阻斷神經傳導，減少動態紋深度達52%）
• 超導玻尿酸（3種分子量玻尿酸協同作用，立體填充皺紋）
• 白藜蘆醇（中和自由基，提升肌膚抗氧化能力）

全成分表
水、甘油、NMN（β-煙醯胺單核苷酸）、八胜肽、水解玻尿酸鈉（大/中/小分子）、白藜蘆醇、泛醇、水解膠原蛋白、1,2-己二醇、黃原膠、乙基己基甘油、檸檬酸。

適用膚況

• 深層靜態紋與表情紋
• 細胞代謝遲緩導致的暗沉
• 肌膚自我修復能力下降

適用膚質：輕熟齡至熟齡肌、高階抗老需求者。

KSPIRELA 護膚小貼士
☀️ 無論晴雨或冬夏：紫外線隨時都能穿透雲層。建議每日保養最後一步務必使用防曬產品。
✨ 引入新保養品時，建議先單獨使用一款產品，觀察2-3天後再逐步疊加，幫助辨識肌膚適應狀況。
⚠️ 若對成分耐受性不確定，請先在耳後或肘內側進行局部測試。